99.99% цел за въртене на тантал с висока чистота
Тантал Спuttering Targe
99.99% цел за въртене на тантал с висока чистота подробности
Описание на продуктите
| Име на продукта | Чистота | Плътност | Състояние на повърхността | Термична обработка |
| Планарна цел Ta | 3Н5 | 16, 65 g/ cm3 | Земя | Отжаряване |
| Ta Rotary Target | 3Н5 | 16, 65 g/ cm3 | Земя | Отжаряване |
| Параметри | Типична стойност |
| Състав | Та |
| Чистота | ≥99.99% |
| Точка на кипене | 5731k (5458 °C) |
| Точка на топене | 3290k (3017 °C) |
| Размер | персонализирани |
| Електрическо съпротивление | < 2×10-4 Ω· cm |
| Размер (mm) | |||
| Максимална OD | Максимална дължина | Максимална дължина на единия сегмент | Коефициент на свързване |
| 145-150 | 3000 | 250 | ≥95% |
| ЦЕЛЕН СПИСЪК | ||||
| Заявления | Цел | |||
| Енергоспестяващо стъкло | Ag,SiLa,NiCr,AZO,JZO,TZO,TiOx,ZrOx..... | |||
| Умно стъкло | JZO,ITO,W,Mo,Cr,Si...... | |||
| Тънко фолио PV | AZO,i-ZnO,Mo,ClG...... | |||
| Докосващ панел | Si,ITO,Mo,Cu,Ti,Al,Ag...... | |||
| Показване | Si,ITO,IZO,IGZO,Mo,Ag,W,Al,Cu,Ti..... | |||
Приложение
1.Метализиране, пръскане с електронен лъч, синтетиране на отгряване в редуцираща атмосфера в електрониката.
2. Военна и лека промишленост
3.Изпаряване на малки дължини на тел или изпаряване на материали.& nbsp;
3.Танталовата лодка е идеална за използване в малки системи за изпаряване.
4.Източниците на танталови лодки се използват за вакуумно изпаряване на материали.
Приложение
Танталът се използва широко в авиационната и космическата промишленост, високотемпературната технология, атомната енергетика и химическата промишленост благодарение на високата си точка на топене, устойчивост на корозия и добри работни показатели при студена работа.
Етикет :
Тантал Спuttering Targe
